浅谈半导体厂房内部结构
该系统运行对洁净室通风进行保障提供工作人员所氧气以及通风条件。
该系统由低温离心式冷水机组、温离心式冷水机组等共组成[]。
十四方面纯水安装工程施工及调试。
二、半导体厂房部温水系统()热水锅炉房该系统建设程其采暖热荷000k;加湿使用蒸汽量550kg;纯水用蒸汽量300kg。
对热水锅炉房进行设置程共建设台真空热水锅炉该锅炉具体制热量930k其部还放置换热器以保障功能实施。
锅炉房建设程其热水泵主要是选择了台503且扬程03离心式水泵[3]。
该热水锅炉房热水系统建设程其管道建设主要使用无缝钢管材其管道阀门主要采用蜗杆传动式蝶阀保温设备建设采用B级橡塑保温材。
(二)蒸汽锅炉房该系统建设程其蒸汽锅炉房设置主要利用了台蒸汽锅炉进行具体建设该设备蒸发量主要06其主使用天然气其使用备用轻柴油。
该种设备使用其蒸汽产生数量07通不断整齐制造空调系统正常加湿运作提供所蒸汽。
该种蒸汽系统补水程主要采用R水进行补充并加热蒸汽管道建设材选择阶段选择无缝钢管作具体管道建设材。
洁净蒸汽管道建设程其材主要应用不锈钢无缝钢管具体材质30L。
三、废水处理系统()处理前水质参数确定对该公司厂房进行具体建设期要对该厂房生产废水情况进行研究与分析。
对废水指标进行详细调将该厂房生产废水水质参数具体总结如下表(二)具体施工对该厂房进行施工主要是对废水流入处理设施进行科学建设。
方面高程设计;二方面工艺设计;三方由该厂房三类废水水质处较状态能够直接作反渗透原水。
(三)处理水质参数确定厂房废水处理其水质参数变化如下表以及表3结论通对半导体厂房部结构进行简单阐述进而从半导体厂房部温水系统;废水处理系统安装及调试两方面对半导体厂房部结构建设进行详细分析与研究。
对课题容进行详细研究与分析得出结表明我国半导体厂房部结构建设研究领域依旧存定问题。
因研究应进步对半导体厂房部结构建设领域进行详细研究与思考希望能够半导体厂房部结构研究提供几可行性建议并半导体厂房发展与建设提供积极促进作用。
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