浅谈半导体厂房内部结构

总结与整理发现其主要具有以下几方面结构系统

方面洁净室天花板系统

该种系统建设主要由天花板框架;支承结构;等部分组成。

方面洁净室新风系统

系统运行对洁净室通风进行保障提供工作人员所氧气以及通风条件。

方面机械排烟系统

该种系统对室空气环境进行保障。

方面冷冻水系统

系统由低温离心式冷水机组、温离心式冷水机组等共组成[]。

方面温水系统

系统主要通蒸汽锅炉房以及热水锅炉房所组成。

方面油罐系统

主要是满足柴油发电机及锅炉所而建设系统

方面工艺真空系统

该种系统采用V对工艺真空系统管道进行建设而成。

方面常温循环冷却水系统

方面工艺设备冷却水系统

方面生产、生活给水系统

方面电力配电系统

十二方面照明系统

十三方面仪表与控制系统

十四方面纯水安装工程施工及调试。

十五方面废水安装工程及调试[]。

二、半导体厂房部温水系统()热水锅炉房系统建设程其采暖热荷000k;加湿使用蒸汽量550kg;纯水用蒸汽量300kg。

对热水锅炉房进行设置程共建设台真空热水锅炉该锅炉具体制热量930k其部还放置换热器以保障功能实施。

锅炉房建设程其使用天然气备用轻柴油。

具体使用程其供给热水温338℃厂房热水使用提供极便捷性。

锅炉房建设程其热水泵主要是选择了台503且扬程03离心式水泵[3]。

该热水锅炉房热水系统建设程其管道建设主要使用无缝钢管材其管道阀门主要采用蜗杆传动式蝶阀保温设备建设采用B级橡塑保温材。

(二)蒸汽锅炉房系统建设程其蒸汽锅炉房设置主要利用了台蒸汽锅炉进行具体建设该设备蒸发量主要06其主使用天然气其使用备用轻柴油。

该种设备具体应用程其额定蒸发压力主要07。

整齐锅炉房建设程其设置主要设备还包括洁净蒸汽发生器。

该种设备使用其蒸汽产生数量07通不断整齐制造空调系统正常加湿运作提供所蒸汽

该种蒸汽系统补水程主要采用R水进行补充并加热蒸汽管道建设材选择阶段选择无缝钢管作具体管道建设材。

阀门建设程使用蜗杆传动式蝶阀进行具体施工。

洁净蒸汽管道建设程其材主要应用不锈钢无缝钢管具体材质30L。

三、废水处理系统()处理前水质参数确定对该公司厂房进行具体建设期要对该厂房生产废水情况进行研究与分析。

笔者调分析发现该厂房使用程将产生以下三种主要废水

种氨氮废水该种废水水量3;二酸碱废水

该种废水水量0;三种回收水。

该种废水水量00。

废水指标进行详细调将该厂房生产废水水质参数具体总结如下表(二)具体施工对该厂房进行施工主要是对废水流入处理设施进行科学建设

具体设计与施工分以下几方面

方面高程设计;二方面工艺设计;三方由该厂房三类废水水质处较状态能够直接作反渗透原水。

故而对废水处理系统进行建设暂不考虑三类废水

(三)处理水质参数确定厂房废水处理其水质参数变化如下表以及表3结论通对半导体厂房部结构进行简单阐述进而从半导体厂房部温水系统废水处理系统安装及调试两方面半导体厂房部结构建设进行详细分析与研究。

对课题容进行详细研究与分析得出结表明我国半导体厂房部结构建设研究领域依旧存定问题。

因研究应进步对半导体厂房部结构建设领域进行详细研究与思考希望能够半导体厂房部结构研究提供几可行性建议并半导体厂房发展与建设提供积极促进作用。

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